28纳米光刻机能生产多少纳米的芯片（光刻机现在能做到几纳米的芯片）

我国芯片2022前半年自给率28纳米光刻机量产没有

近日，有传言称，全国产28纳米产线已经量产，为华为代工的芯片也已经流片成功, 这可能吗？

中芯国际有28纳米生产线，都基本都是美国或者其它国家的半导体生产设备，这肯定受制于人，所以，纯国产的28纳米生产线当然好，其中最重要的是光刻机。

按照上述传言的说法，那就是中国研发成功了28纳米光刻机。实际当然不是如此。中国光刻机技术最强的上海微电子，目前只研发出90纳米的光刻机，一直想研发制造28纳米芯片的光刻机，预计2021年会交货，但最起码2022年才能在芯片厂达成量产。即便如此，上海微电子的这个光刻机技术也不能完全“去美”化。

但为何会有中国研发成功28纳米光刻机的传言呢？是因为最近有另外一个传言，即中国最大电子企业集团公司之一、中国电科推出了28纳米离子注入机，名称像是针对28纳米生产的，但离子注入机和光刻机还不是一回事。

决定芯片良品率高低的因素有很多，最重要的光刻机，而光刻机的一个环节又是离子注入环节。而在离子注入环节中担任“总指挥”的是离子注入机。

离子注入机在芯片制造过程中主要负责对芯片进行电离子改造，按照预定方式改变材料的电性能。在光刻机对芯片进行曝光生产前，离子注入机对硅片进行不同元素掺杂，能够提高芯片的集成度、良品率和寿命。简单来说，离子注入机在芯片制程中起到了优化硅片、提高芯片性能的作用。

我国以前在离子注入机技术方面也很差，这就对光刻机的研发有很大制约，所以，搞定了28纳米离子注入机技术，对研发28纳米光刻机有利，但不能等同于光刻机。

一个光刻机最起码几万个零部件，据悉，离子注入机技术只占光刻机技术的3%左右。

中22纳米光刻机能制9纳米芯片吗

可以生产9nm的芯片。

22nm光刻机最高能生产7nm的芯片。22nm光刻机也就是duv光刻机，通过技术手段比如多次曝光可以制造出7nm芯片。最先利用duv光刻机制造出7nm芯片的是台积电和三星公司，也是目前全球可以做到7nm量产的两家公司。像英特尔和中芯国际也可以用22nm光刻机制造7nm芯片，不过良品率有待提高。

90nm光刻机能做啥样的手机？

您提起的上海那家公司是上海微电子装备有限公司，截止现在（2020/06/13）这家公司最先进的光刻机确实是90纳米的水平。但是不管是苹果和安卓，都没有经过90纳米的过程，第一代和第二代iPhone的CPU是ARM11，使用的是130纳米的工艺，第三代的iPhone3GS已经用上65纳米的工艺。到了iPhone4时已经用上45纳米工艺的自研A4处理器。

高通进入手机芯片制造稍微晚一些，是从65纳米开始的。从第二代S2系列以后才用上45纳米工艺。第一代小米手机M1用的是高通骁龙第三代S3系列的MSM8260处理器。

芯片制造主要看光刻机精度和工艺。按照现在的工艺，用90纳米光刻机经过两次曝光，可以获得45纳米的芯片，三次曝光可以最高达到22纳米的水平，三次曝光良品率过低，一般都控制在28纳米或者32纳米。也就是相当于苹果iPhone5/5S的A6/A7处理器水平，或者华为畅享6/7系列、小米红米4系列。

综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米、45纳米、28纳米的手机芯片。这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代！

另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年（2021年）正式交付使用！28纳米国产光刻机经过多次曝光工艺可以生产28纳米、14纳米、10纳米芯片，极限状态下，不考虑成本和良品率的情况下，也可以生产7纳米芯片。

90 纳米制程工艺的芯片到底有多大，能做什么样的手机？

想想，台积电在大概在2004年，2005年的时候它的90纳米制程工艺技术才完全成熟起来，其实上述这个标题表述不准确，不是90纳米的光刻机，应该说90纳米制程工艺，纳米就是比头发丝还小的概念，90纳米并不是说的芯片整体外观大小，而说的是在芯片上光刻布置的元器件的间距。在芯片上光刻元器件，电路就跟拿着图纸在地基上建设许多房子与基础设施一样，建成后形成一个强大的整体处理功能区，这就是芯片。

其实90纳米制程工艺的芯片整体外观大小与现在7纳米，14纳米制程工艺芯片整体外观差不多一样的，只是芯片上面布置的元器件多少的问题，比如90纳米制程工艺芯片上可以光刻上10亿个元器件，那么7纳米制程工艺的芯片就可能布置上50亿个元器件，很简单的问题，那么肯定的是7纳米制程工艺的芯片功能要强大的多，因为7纳米制程工艺的芯片上元器件要多得多，设计更完善，更合理，功能越强大。

那么有90纳米制程工艺技术的光核机能做啥样的手机？不要小看90纳米制程工艺的芯片在大概2004年时候才成熟，那时候用90纳米制程工艺做的芯片在很多大牌手机上用过，80后的大哥肯定用过这样的手机，比如德州仪器的90纳米制程工艺的 OMAP 1710 CPU，那时候这个处理器就搭载在诺基亚一系列型号手机上，像N90，N80，E70，E60，主要诺基亚的N系列与E系列产品上，用过诺基亚手机都知道手机本身整体也不大，因此90纳米制程工艺与7纳米制程工艺做出来的芯片并不是说外观上有大小的关系，主要是功能上大小的关系。

估计不会只做2G手机和大哥大！我虽外行不懂技术，可以想象一，1纳米是比一根头发小20000倍90纳米有多大？可能功能上不如7/9纳米，现在的手机某些功能对多数人没多大用或者根本用不上。因为竞争状态下厂家以功能争销量！所以说断供芯片不是手机一下回到2G或大哥大年代！压力变动力相信中国人定能解决这个难题！唯有如此！屈服只会换来更大的耻辱！

苹果的第一款手机cpu APL0098，于2007由三星电子90nm工艺制作的，它用于iphone 3G和第一代iphone touch上。

也就是说90nm工艺造出来的芯片只能用于几乎算第一代的智能手机上，现在即使程序支持这个cpu，但是跑啥程序都会卡的没法用。

别的不说，做出来的手机同样性能的情况下个头肯定不小。因为在相同性能的情况下芯片的面积需要大很多倍。再就是架构之类的也有很大的关系。纯小白，只能说这些了。

遇到困难迎难而上的是勇士，跪下求饶的是软蛋，自己跪下还对敢于面对困难的勇士冷嘲热讽嫌人不跪好的是贱人。90nm的工艺如果是我们能够使用的最好技术的话，在有限资源的基础上克服困难也会有一个能够接受的结果。至于目前貌似拦路虎的芯片问题，以中国举国之力，必将成为我们这个民族前进道路上的一个路标。

要看是90纳米制程还是90纳米的光刻机。90纳米制程和现在主流7纳米相差太大不适合做手机芯片，因为手机芯片追求体积小巧和低功耗。如果是90纳米光刻机并不是做出来的芯片就是90纳米，可以曝光3次达到14纳米级别。但是7纳米以下基本就是euv能做，asml最先进的机器是13.5纳米，并不是波长5纳米7纳米

当年塞班软件挺好的，几百K大小。软件优化夏不行么？非的堆硬件？

90纳米的光 科技 根本不可能做手机，现在正常的手机用20纳米以上的工艺的都很难找到了，90纳米至少是十几年前就已经被手机和电脑处理器淘汰的产品了。

几周前随上科院去几家IC相关企业调研，得到的消息是，国内企业要抱团，1-2年，从头到尾，全国产国有自主，做出90nm，做出来就是伟大胜利的第一步。这个不是用不用在手机上的问题，就像当年的盾构机，是0到1的突破。制成到5nm要再进一步，2nm已经登天，花再大代价到更小制成，意义真不大，留给我们一些时间去追赶。当然，光芯片是另外的出路，也在研究积累。说实话，当我听到业界大佬说90nm，我开始是心里哇凉哇凉的，但转念一想，也能释然，不积跬步无以至千里。这次调研给我信心是，相关从业企业里年轻人挑起大梁，一点一滴的做着该做的事。

28纳米光刻机是怎么做出14纳米芯片的?

光刻制程本身就是一种多重配套制造流程，包括多重黄光和光胶，脱离以及再生过程等等，需要芯片设计软件搭配。

如果芯片设计上以28纳米光刻设备配合适当的14纳米缩影光罩和胶片缩影，还有所有配套齐全时，（非行业内人士很难理解光罩的作用）代用实验制程但非14纳米量产制程，可以在部分芯片的电路位置做出14纳米的线路，但不能量产和非全面的14纳米制程。

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